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品牌 | 其他品牌 | 價格區間 | 面議 |
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產地類別 | 進口 | 應用領域 | 醫療衛生,食品,化工,建材,電子 |
日立高新離子研磨裝置IM4000具有斷面加工和平面研磨功能的混合儀器!
日立高新離子研磨裝置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000 )的混合模式帶有兩種研磨配置:
斷面加工:將樣品斷面研磨光滑,便于表面以下結構高分辨成像。
平面研磨:將樣品表面均勻研磨5平方毫米,從不同角度有選擇地研磨,以便突出樣品的表面特性
日立高新離子研磨裝置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000 )的高通量能提高加工效率:與之前的E-3500型相比,采用新型離子槍設計,減少了橫截面研磨時間。(大加工率:硅元素為300微米/小時--加工時間減少了66%。
日立高新離子研磨裝置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000 )的可拆卸樣品臺裝置:為便于樣品設置和定義研磨邊緣,可將樣品臺裝置拆卸。
日立高新離子研磨裝置IM4000?特點
混合模式:兩種研磨配置
斷面加工:將樣品斷面研磨光滑,便于表面高分辨觀察
平面研磨:不同角度有選擇地,大面積,均勻地研磨5 mm的平面,以突顯樣品的表面特性
高效:提高加工效率,與之前的E-3500型相比,采用新型離子槍設計,減少了橫截面研磨時間(大加工速度:硅材質為300 μm/h - 加工時間減少了66%)
可拆卸式樣品臺:為便于樣品設置和邊緣研磨,樣品臺設計為可拆卸型
規格
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